前年是瑞星科技公司的的一個分水嶺，自從瑞星科技公司在研發浸液式光刻機成功後，也是開始大批量地將這些技術延伸到了所有的產品線，推出的氟化氪光刻機和氟化氬光刻機產品線迅速地被國內外的晶圓廠開始採購。
大量的晶圓廠開始拋棄了霓虹國的光刻機，紛紛轉爲採購瑞星科技公司的產品。
尤其是去年鷹醬國內的英特爾等知名的半導體廠商都是採購瑞星科技公司的產品，更是讓霓虹國的佳能和尼康生產光刻機的業務遭受了重挫，市場份額那是直線下滑。
今年瑞星科技公司的光刻機產量也是達到了一個峰值水平，艾斯摩爾公司的到現在也只賣出去五十臺的樣子，而霓虹國的兩家光刻機產量就更爲可憐了。
樂觀估計的話，今年瑞星科技公司光是在光刻機這一個業務上就能實現淨銷售額90多億美金，淨收入在40多億美金，利潤率極高。
如果加上刻蝕機和離子蒸鍍設備這些業務的話，瑞星科技公司一年總的營收突破了兩百億美金。
而且因爲客戶都是企業，所以瑞星科技公司也不需要打廣告什麼的，銷售人員也是很少，而且賣得都是高科技產品，自然利潤極高。
而國內外爲瑞星科技公司提供零部件的這些公司也是獲利不菲。
光刻機的零部件有5000個左右，瑞星科技公司大部分的零件都是從國內外採購，採購的零件能夠佔到百分之七十八左右，其中國外採購量能佔到總採購量的百分之四十，國內能佔到百分之六十。
這些零部件的設計標準都是瑞星科技公司自己制定出來的，標準非常嚴苛，自然是保證了光刻機產品的質量和精度。
而瑞星科技公司主要研發的技術在組裝、校準、精度、產品硬件和軟件的穩定可靠性這些上面，用吹毛求疵來形容那是絲毫不過分的。
公司通過七八年的打磨和技術積累才達到了一個非常高的水準，而且這個標準隨着製程工藝的進步還要進一步提高才能到達產品設計要求，可以說是一個沒有盡頭的道路。
這些公司制定出來的標準纔是最重要的東西，現在就算是其他的公司拿到所有零件也不可能模仿出來。
楊傑對艾斯摩爾這家公司在今年也是推出類似的沉浸式光刻機產品來也是十分注意，這家公司在今後將是瑞星科技公司強勁的對手，路數跟瑞星科技公司十分相似，而且也是繞開了瑞星科技公司的技術專利，也足以證明了這家公司之前積累下來的深厚技術功底。
何玉光此前也是向楊傑建議向艾斯摩爾公司發起專利侵權的官司，不過楊傑卻是否掉了。
有這麼一家公司來跟瑞星科技公司競爭也是好事，如果這個市場真的只剩下一家公司後也會讓瑞星科技公司失去動力的。
本來市場就是靠着產品技術實力來說話，說破了大天，結果產品技術不行什麼都是虛的。
光刻機是昂貴的工具機，英特爾作爲深紫外光光刻機的推動者，也是早就希望光刻機制造商能夠推出這類的光刻機，但是現階卻是沒有一家光刻機制造商能夠量產，因爲這個技術實在太難了，現在華興集團公司也只是掌握了部分的技術。
楊傑也是讓瑞星科技公司加快研製深紫外光光刻機的研發進度，也是希望能夠在五年內能夠讓大部分的技術變得成熟起來，至少在搶在艾斯摩爾公司之前將這套深紫外光光刻機實現量產。
因爲沉浸式光刻機的193納米波長的氟化氬光源極限製程工藝只能達到22納米，雖然說芯片製造商能夠使用193納米氟化氬沉浸式光刻機使用多重成像技術能夠勉強地將製程工藝提升到16到14納米節點甚至能夠達到乃至10及7納米節點，但是這種多重曝光技術增加曝光次數，導致成本顯著上升，良率、產出大幅下降的問題。
如果這個時候深紫外光光刻機還不能實現量產的話，那麼國內的製程工藝也就陷入了停滯狀態，這個是楊傑不希望看到的。
他是希望在28到14納米制程工藝節點的時候深紫外光光刻機就能實現量產，繼續推動製程工藝往下走下去。
相比沉浸式光刻加三重成像技術，深紫外光光刻技術能夠將金屬層的製作成本降低9%，過孔的製作成本降低28%。
隨着製程工藝逐漸逼近極限，深紫外光光刻機的光源需要不斷地提升，鏡組的孔徑數值要更高，這些都是人類的工藝的極限挑戰。
不過作爲一個技術狂，像這樣的技術的極限挑戰卻是讓楊傑樂此不疲，要是不將這些攔在自己面前的技術困難給攻破，他是不能容忍的。
到時候他也是很希望自己很牛掰地跟媒體說：“如果我們交不出極紫外光光刻機的的話，摩爾定律就會從此停止。”
這個感覺纔是讓感科技工作者感覺到最爽的。
前世的時候，因爲極紫外光光刻機的技術難度、需要的投資金額太高，另外兩大微影設備廠──霓虹國的尼康和佳能都是放棄開發，艾斯摩爾公司成爲半導體業能否繼續衝刺下一代先進製程，開發出更省電、運算速度更快的電晶體的最後希望。
現在楊傑是希望自己旗下的瑞星科技公司成爲這個最後的希望，能夠讓國內的半導體產業繼續在這方面領先。
如果能做到這一點，這也是他這一生當中做得最驕傲的事情之一。
現階段來說，深紫外光光刻機的原理已經不是什麼秘密，做出深紫外光光刻機的原理樣機很多公司都是能夠做到的，但是在光源、鏡組、光刻掩膜光罩、光刻機方面卻是存在着大量需要攻克的工程技術問題，但是國內外很多研究機構和公司企業對這些難關的解決方案正在研究當中，一旦將這些難題解決，極紫外光刻技術在大規模集成電路生產應用過程中就不會有原理性的技術難關了。
楊傑深知這是個無比浩大的工程，光是靠華興集團公司也是沒辦法做到的，只能和公司的這些供應商聯手去解決了。